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高精度非接觸式光學(xué)測厚儀LensThick非接觸式光學(xué)測厚儀
高精度非接觸式光學(xué)測厚儀LensThick非接觸式光學(xué)測厚儀2
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高精度非接觸式光學(xué)測厚儀 LensThick非接觸式光學(xué)測厚儀

LensThick非接觸式光學(xué)測厚儀利用光的獨特性質(zhì)測量厚度,其測量原理為:測量激光照射到被測試材料上,經(jīng)過(guò)每個(gè)表面反射后被收集,然后在...
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Product Details

LensThick非接觸式光學(xué)測厚儀利用光的獨特性質(zhì)測量厚度,其測量原理為:測量激光照射到被測試材料上,經(jīng)過(guò)每個(gè)表面反射后被收集,然后在光學(xué)干涉儀上進(jìn)行分析,光學(xué)干涉儀是一種高精度的“光學(xué)尺”,它測量每個(gè)反射信號的長(cháng)度差,以確定每一層的厚度和總厚度。

 

產(chǎn)品特點(diǎn)


*非接觸式測量,不會(huì )造成元件表面損壞或變形

*用于高精度定位測量位置的可見(jiàn)光束

*可同時(shí)測量31層壁厚

*精度可達±0.1微米

*測量重復性達±0.02微米

*基于內部固有長(cháng)度標準,實(shí)時(shí)顯示測量數據

*測量結果可追溯至NIST標準

*測量物理厚度可達12微米(折射率1.5時(shí))

*集成裝置,操作簡(jiǎn)便,更無(wú)需專(zhuān)用PC

 

產(chǎn)品型號及技術(shù)指標


規格參數

LensThick 系列

型號

12-1 UP

12-1

40-1 UP

40-1

厚度測量

方法

非接觸式光學(xué)干涉法

光學(xué)厚度上限

(折射率為1的空氣間隔)

12 mm

40 mm

物理厚度上限

(折射率為1.5的材料)

8 mm

26 mm

物理厚度下限

(折射率為1.5的材料)

16 μm(±0.1μm精度)

12 μm(±1 μm精度)

35 μm

20 μm(±0.1μm精度)

12 μm(±1 μm精度)

35 μm

精度  1,2

±0.1 μm

±1 μm

±0.1 μm

±1 μm

重復性  3,4

±0.02 μm

±0.05 μm

±0.02 μm

±0.05 μm

可溯源

NIM認證標準

單位

mm、μm

測量頻率

20 Hz

7 Hz

儀器接口

USB2.0及以上接口

電腦配置 

Windows 7/8/10,1GB內存,USB2.0以上接口,顯示器,鼠標

環(huán)境  5

熱機時(shí)間

無(wú)

溫度

15℃到30℃(存儲-10℃到+70℃)

壓力

500 — 900 mm Hg

濕度

在+40℃時(shí)≤90% R.H.(無(wú)冷凝)

尺寸和重量

尺寸

570mm×700mm×590mm(長(cháng)×寬×高)

重量

20㎏

功率

90-264 VAC,47-63 Hz,80 VA最大

質(zhì)保期

1年

產(chǎn)品中心

PRODUCT CENTER